Nanostart-Beteiligung ItN Nanovation: Rusnano plant Beteiligung im Zuge einer Kapitalerhöhung

04.04.2011, Die Nanostart-Beteiligung ItN Nanovation AG (ISIN DE000A0JL461) hat mit dem russischen Staatskonzern Rusnano über eine Beteiligung am Unternehmen eine Einigung erzielt und beabsichtigt in diesem Zusammenhang eine bezugsrechtswahrende Kapitalerhöhung. Die Einigung mit Rusnano enthält noch einige bedingte Rücktrittsrechte. Die Beteiligung von Rusnano ist in Verbindung mit der Durchführung einer Kapitalerhöhung im Volumen von bis zu 11 Mio. Euro vorgesehen. Die bezugsrechtswahrende Kapitalerhöhung soll im Verhältnis 4:1 zu einem Ausgabepreis von EUR 5,07 je Aktie erfolgen. An dieser Kapitalmassnahme wird Rusnano teilnehmen und dabei – vorbehaltlich der Erfüllung einiger Voraussetzungen – die Übernahme nicht bezogener Aktien garantieren. Rusnano hat dabei sein Engagement insbesondere davon abhängig gemacht, dass Rusnano mindestens 25 Prozent (nach evtl. Verwässerungseffekten) des nach der geplanten Kapitalerhöhung bestehenden Grundkapitals der Gesellschaft erwirbt, überwiegend im Rahmen der Kapitalerhöhung.
Die von der Wolfgang Steubing AG begleitete Massnahme wird als bezugsrechtswahrende Kapitalerhöhung mit mittelbarem Bezugsrecht im Verhältnis 4:1 ohne öffentliches Angebot und ohne Bezugsrechtshandel durchgeführt. Die Zulassung der neuen Aktien zum Börsenhandel soll erst zu einem späteren Zeitpunkt erfolgen, voraussichtlich im vierten Quartal 2011, bis dahin werden die neuen Aktien ggf. unter einer separaten, nicht zum Börsenhandel zugelassenen ISIN geführt.
Eingeworbene Mittel sollen vorrangig für den Ausbau des internationalen Geschäfts der ItN Nanovation verwendet werden.
Die russische Staatsholding Rusnano wurde gegründet, um Russland zu einem der führenden Nanotechnologie-Player zu entwickeln. Es stehen mehrere Milliarden Dollar zur Förderung der russischen Nanotechnologie zur Verfügung, und auch für Projekte wie Kooperationen und Joint Ventures mit führenden Nanotechnologie-Unternehmen aus der ganzen Welt.
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